任正非曾表示，我國擁有世界頂級的芯片設(shè)計能力，掌握著世界上最先進(jìn)、成熟的芯片制程工藝，由于光刻機(jī)和化學(xué)材料被卡了脖子，國內(nèi)企業(yè)無法獨(dú)自制造出高端芯片。
然而，讓所有人沒想到的是，不久前，央視正式宣布，國產(chǎn)EUV光刻機(jī)取得重大技術(shù)突破，且0.1nm的光源設(shè)備已投入使用！
中國突破只需三五年隨著科技的發(fā)展，智能電子產(chǎn)品的普及，很多領(lǐng)域的發(fā)展都已離不開芯片的支撐，掌握芯片已上升為世界各國的戰(zhàn)略層次。
眾所周知，我國進(jìn)入半導(dǎo)體領(lǐng)域較晚，西方國家為了防止我國科技的崛起，早在幾十年前簽訂了《瓦森堡協(xié)定》，禁止向我國出口高尖端技術(shù)，且國內(nèi)企業(yè)過于追求輕資產(chǎn)的發(fā)展，而忽視了對重資產(chǎn)投資的重要性，以至于國內(nèi)所消耗的芯片，70％以上都要依賴進(jìn)口。
上文也提到了我國為何無法獨(dú)自制造出高端芯片的原因，光刻機(jī)被卡了脖子！或許有的人會問，我們原子彈都能造出來，為何造不出EUV光刻機(jī)？
EUV光刻機(jī)的制造是一個項目工程，不僅需要大量的高尖端技術(shù)，還需要海量的高精密元器件。如ASML公司制造的EUV光刻機(jī)，所需的元器件高達(dá)10萬件，來自世界上35個國家的1500多個企業(yè)，且每一件都代表著業(yè)內(nèi)的最高水準(zhǔn)。值得一提的是，ASML公司制造EUV光刻機(jī)所需的核心元器件，沒有一件是來自我國企業(yè)，可以預(yù)見，我國要制造EUV光刻機(jī)的難度有多大。
隨著美國不斷對我國企業(yè)進(jìn)行芯片制裁，讓我們意識到：在當(dāng)今這個時代，要想擺脫被人魚肉的命運(yùn)，就必須實現(xiàn)技術(shù)獨(dú)立，制造出EUV光刻機(jī)，實現(xiàn)高端芯片的國產(chǎn)化。
2020年9月16日，中科院正式宣布，已根據(jù)“卡脖子清單”成立了對應(yīng)的科研攻關(guān)小組，且光刻機(jī)技術(shù)攻關(guān)團(tuán)隊的每一位科研人員立下了軍令狀，爭取在短時間內(nèi)攻克技術(shù)難關(guān)，制造出國產(chǎn)EUV光刻機(jī)。
隨著國內(nèi)“造芯”浪潮的掀起，ASML公司總裁在不久前發(fā)出警告：如果不將光刻機(jī)賣給中國，三五年之后，中國就會擁有自己的光刻機(jī)，憑借著強(qiáng)大的成本優(yōu)勢，很可能在15年之內(nèi)將ASML公司逼出光刻機(jī)市場。
如今，隨著央視一則關(guān)于國產(chǎn)EUV光刻機(jī)的發(fā)布，終于進(jìn)一步驗證了ASML總裁的預(yù)言。
國產(chǎn)EUV技術(shù)大獲突破近日，央視正式宣布：我國已經(jīng)在EUV光源和雙工件臺技術(shù)上取得重大突破！
據(jù)央視公開的消息來看，中科院自研的國內(nèi)首臺高能光源設(shè)備已經(jīng)開始使用，且安裝完成度已超過70％。中科科美也掌握了透鏡鍍膜技術(shù)，制造出了光學(xué)零件0.1nm的鍍膜設(shè)備。
了解EUV光刻機(jī)的朋友都知道，EUV光刻機(jī)是由3個核心部分構(gòu)成的：EUV光源、雙工件臺和EUV光學(xué)鏡頭。如今，我們已經(jīng)突破了EUV光源和雙工件臺技術(shù)，這也就意味著，我們只要實現(xiàn)了EUV光學(xué)鏡頭的制造，即可制造出國產(chǎn)EUV光刻機(jī)。
寫在最后在這個經(jīng)濟(jì)全球化的時代，各國企業(yè)之間的聯(lián)系越來越緊密，分工越來越清晰，已經(jīng)形成了“你中有我，我中有你”的現(xiàn)象，如果一家企業(yè)受到非正常的“攻擊”，整個產(chǎn)業(yè)鏈都會受到嚴(yán)重的影響，美國制裁華為，加劇世界“芯荒”就是一個很好的證明。
國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)不斷傳出的好消息，向世界傳遞了一個重要信息：任何要想奴役我們科技的國家，必將會在我國企業(yè)、科研人員和14億國人用血肉筑成的銅墻鐵壁面前，碰得頭破血流！
