圖片來源：ASML
記者 | 彭新
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半導(dǎo)體光刻機(jī)廠商ASML今日發(fā)布2020年第三季財(cái)報(bào)，營收40億歐元優(yōu)于預(yù)期，預(yù)計(jì)第四季的營收將在36億歐元到38億歐元區(qū)間，2020年全年?duì)I收預(yù)期至少133億歐元，并看好2021年將有兩位數(shù)的營收增長。
根據(jù)ASML 2020年第三季財(cái)報(bào)顯示，ASML銷售凈額為40億歐元，凈收入11億歐元，毛利率47.5%，新增訂單金額29億歐元。從出貨來看，當(dāng)季總共銷售60部光刻系統(tǒng)，包括57部新系統(tǒng)和3部二手系統(tǒng)。截至三季度系統(tǒng)裝機(jī)量達(dá)到862部。
目前，ASML仍是世界上少數(shù)幾家制造芯片光刻機(jī)的企業(yè)。光刻機(jī)在芯片生產(chǎn)中極為關(guān)鍵，其中極紫外光刻機(jī)（EUV）目前僅有ASML能夠生產(chǎn)，這種設(shè)備主要用于生產(chǎn)7納米及更先進(jìn)制程的芯片。
在DUV（深紫外光）光刻業(yè)務(wù)領(lǐng)域，ASML對首臺TWINSCAN NXT：2050i光刻機(jī)進(jìn)行了質(zhì)量認(rèn)證，將立即進(jìn)入批量生產(chǎn)，并于第四季度初發(fā)貨。 NXT：2050i在掩模版工作臺，晶圓工作臺，投影物鏡和曝光激光器的技術(shù)改進(jìn)?？蓪?shí)現(xiàn)較于前一代更好的套刻精度控制和更高的生產(chǎn)率。
EUV（極紫外光）光刻業(yè)務(wù)領(lǐng)域，ASML表示，絕大部分TWINSCAN NXE:3400B系統(tǒng)在客戶處同時進(jìn)行了生產(chǎn)率模組的升級。該公司公布了TWINSCAN NXE：3600D光刻機(jī)的最終規(guī)格，可提高18%的生產(chǎn)率，該機(jī)型計(jì)劃于2021年中開始發(fā)貨。
ASML總裁兼CEO韋尼克(Peter Wennink)表示，ASML第三季的營收高于預(yù)期，毛利率維持在47.5%。今年第三季，完成10臺EUV系統(tǒng)出貨，并確認(rèn)14臺EUV系統(tǒng)的銷售收入。
韋尼克還表示，公司運(yùn)營并未受到新冠疫情的負(fù)面影響，第三季的新增訂單金額達(dá)到29億歐元，其中5.95億歐元來自4臺EUV系統(tǒng)訂單。
展望2021年，韋尼克稱，盡管宏觀環(huán)境存在不確定性，包括COVID-19疫情的經(jīng)濟(jì)影響和地緣政治發(fā)展。然而長期來看，終端市場驅(qū)動因素的發(fā)展（例如5G、AI和高性能運(yùn)算）將推動對于高階邏輯運(yùn)算和內(nèi)存芯片的需求，這些先進(jìn)制程的應(yīng)用，都需要使用到先進(jìn)光刻機(jī)。
在半導(dǎo)體制造客戶方面，臺積電今年5納米量產(chǎn)，將擴(kuò)大采購EUV設(shè)備。據(jù)供應(yīng)鏈消息稱，臺積電目前累計(jì)采購的EUV設(shè)備已超過35臺，占ASML過半產(chǎn)量，比其他競爭對手加起來還多。此外，三星電子為發(fā)展5納米EUV制程，以及以極紫外光刻技術(shù)（EUV）生產(chǎn)首個10納米DDR4 DRAM模組，也將持續(xù)采購EUV設(shè)備。
ASML在今年早些時候停止了高達(dá)60億歐元的股票回購計(jì)劃，其中包括總計(jì)不超過40萬股的股票，用于員工持股計(jì)劃。在財(cái)報(bào)發(fā)布后，該公司宣布在本周恢復(fù)執(zhí)行股票回購。
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