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核桃上雕船有什么稀奇,來看看頭發(fā)絲上刻一個

時間:2020-06-10 15:22來源:網(wǎng)絡(luò)整理 瀏覽:
來源:中國科普博覽核桃雕或許不稀奇,但你能想象在頭發(fā)絲上畫出一個體育館嗎?《論語》有云:“工欲善其事,必先利其器”。由此可見,好的工具在制

來源:中國科普博覽

核桃雕或許不稀奇,但你能想象在頭發(fā)絲上畫出一個體育館嗎?

《論語》有云:“工欲善其事,必先利其器”。由此可見,好的工具在制造過程中起著關(guān)鍵作用。

在前工業(yè)時代,人們以人手為工具,采用手工方式制造各種生產(chǎn)、生活用具。

進(jìn)入工業(yè)時代,機(jī)床代替了人手,完成各種精密元件的加工。

隨著科技的進(jìn)步,人類進(jìn)入信息時代,由機(jī)床制造的具有宏觀結(jié)構(gòu)的器件已無法滿足人們對高信息容量的需求,具有微米、納米制造能力的光刻機(jī)成為新時代的制造之王。

制造工具發(fā)展制造工具發(fā)展

光刻機(jī),顧名思義,以光為媒,刻化微納于方寸之間。光刻機(jī)能夠利用光作為媒介,實現(xiàn)各種微米甚至納米圖形加工。目前最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠加工的最細(xì)線條已經(jīng)達(dá)到13nm。我們?nèi)祟惖念^發(fā)絲直徑在50μm—70μm左右,而利用光刻手段能刻畫出頭發(fā)絲直徑1/5000的線條。古代人類通過手工方式在核桃上雕刻出一葉扁舟已屬精妙絕倫,而利用信息時代的制造工具光刻機(jī),我們能夠在一根頭發(fā)絲上刻畫出一座足球場。

頭發(fā)絲上的足球場頭發(fā)絲上的足球場

Part。 1

芯片制造之“光”

我們現(xiàn)實生活中用的都是看得見摸得著的東西,光刻機(jī)這種“高精尖”的設(shè)備是不是曲高和寡,和我們離得很遙遠(yuǎn)了?

其實不然,光刻機(jī)與我們生活息息相關(guān),已經(jīng)滲入我們生活的方方面面。我們用的電腦、電視顯示屏之所以能夠顯示出色彩斑斕的各種圖形,得益于光刻機(jī)在面板上加工的一個個像素圖形;家用LED等之所以能夠發(fā)光,正是源于其上通過光刻手段加工出來的正負(fù)級結(jié)構(gòu);電腦里面的CPU能夠?qū)崿F(xiàn)各種快速運算,依靠的是其內(nèi)部由光刻加工出來的各種微納結(jié)構(gòu);家用汽車能夠?qū)崟r感知車內(nèi)車速、溫度、胎壓等情況,也是利用由光刻機(jī)加工出來的各種傳感器。

信息時代,光刻機(jī)不僅能夠完成電腦CPU、FPGA等傳統(tǒng)意義上的芯片,而且是平板顯示、LED、傳感器等具有一定功能和一定集成度的“廣義芯片”的主要加工手段。作為信息時代的制造之王,光刻機(jī)所加工的各類“芯片”已經(jīng)無處不在,無所不能。

Part。 2

有了光刻機(jī)就能夠制造芯片了?還不行

從一個普通的基片到我們最后使用的芯片,要經(jīng)過“九九八十一難”,包括數(shù)百道工藝環(huán)節(jié),任何一個環(huán)節(jié)出錯都將影響最終的芯片質(zhì)量,而光刻僅僅是其中最為關(guān)鍵的環(huán)節(jié)之一。就像我們作畫一樣,畫圖很關(guān)鍵,但一幅好的作品也需要好的紙張、顏料、剪裁、裝裱等材料和工序的配合。

Part。 3

“光”說不練假把式:光刻機(jī)的工作原理

目前主流光刻機(jī)可以分為接近接觸式、投影式以及直寫式光刻三類,每種光刻機(jī)的工作原理各有不同,適用于不同加工場景。

 光刻主要類型 光刻主要類型

接近接觸式光刻機(jī)

該種光刻機(jī)在工作過程中具有微納圖形結(jié)構(gòu)的模具(掩模版),與待加工結(jié)構(gòu)表面相互接觸,在紫外光的照射下,將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移到待加工圖形表面。它的工作原理類似與我們的“手影”游戲,利用已有的圖形,阻擋光線的傳播,從而形成明暗相間的圖形分布,結(jié)合待加工表面感光膠的感光特性,記錄下我們所需要的圖形。

 圖片來源:Veer圖庫 圖片來源:Veer圖庫

該種方法的特點是設(shè)備結(jié)構(gòu)相對簡單,加工效率高,但僅能實現(xiàn)圖形1:1復(fù)制,無法進(jìn)一步縮小,而且能夠加工的最細(xì)線條僅在微米量級。

投影式光刻

投影光刻機(jī)工作原理類似于照相機(jī)(如下圖所示),工作過程中將掩模版(外部影像)通過投影物鏡(透鏡)成像到基片(感光介質(zhì)表面)。

 投影光刻機(jī)與照相機(jī)對比 投影光刻機(jī)與照相機(jī)對比

由于投影光刻機(jī)采用了投影式的工作方式,掩模與基片不再相互接觸,極大地避免了對掩?;蚧膿p傷;而且利用投影鏡頭,通過改變其縮小倍率,可以加工出比掩模版圖形更為細(xì)小的結(jié)構(gòu)。

除此以外,投影光刻機(jī)具有掃描式成像的曝光能力,工作效率極高。

由于卓越的性能優(yōu)勢,投影光刻機(jī)一直以來都是各類光刻機(jī)中的主流,目前GPU、FPGA、LCD等高端芯片均是采用投影光刻機(jī)進(jìn)行加工。

盡管工作原理類似,投影光刻機(jī)復(fù)雜程度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于照相機(jī),其內(nèi)部包含了數(shù)十個關(guān)鍵分系統(tǒng)(如下圖所示)。工作過程中,各個分系統(tǒng)密切配合,保證在高速工作狀態(tài)下,高分辨力(13nm線寬)、高質(zhì)量圖形加工。最先進(jìn)的投影光刻機(jī)單臺售價高達(dá)近10億元,價格反應(yīng)了該設(shè)備的價值和技術(shù)含量。

投影光刻機(jī)被認(rèn)為是半導(dǎo)體制造業(yè)皇冠上的明珠,研制難度極大,是人類最高科技水平的體現(xiàn)。全球僅有ASML、Nikon、Canon具備高端投影光刻機(jī)量產(chǎn)能力。

投影光刻機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖投影光刻機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖

直寫式光刻機(jī)

從以上接近接觸式光刻機(jī)、投影式光刻機(jī)的介紹中可以看到,這兩種都是采用的“復(fù)制”工作模式,都是將掩模上的圖案“復(fù)制”到待加工表面。而掩模上的圖案從哪里來?這就需要用到直寫式光刻機(jī)。

直寫式光刻機(jī)的工作原理類似于我們寫字,工作過程中,設(shè)備通過多種手段,將我們的光束(或者是電子束、離子束)聚焦成類似于我們筆尖的小小一點,然后帶動筆尖或者基片實現(xiàn)兩者之間的相對運動,從而完成任意的圖形加工。

直寫光刻示意直寫光刻示意

直寫式光刻機(jī)可以完成任意圖形加工,其加工精度極高,能夠加工的最細(xì)線條可以達(dá)到納米量級。但它在加工過程中,是以點的方式完成圖形加工,工作效率極低,不適用于大批量結(jié)構(gòu)的制備,目前主要用于掩模版的加工。

Part。 4

光刻機(jī)的“光”明未來

光刻機(jī)一直以來都在追求更高的信息容量,高分辨力、大面積、三維是它主要的未來發(fā)展方向。

在高分辨力方面,我們通過不斷地縮小所采用的光源的波長(EUV光源13.5nm),增強(qiáng)投影物鏡的最小線條成像能力(提高數(shù)值孔徑1.3)等方式,不斷縮小能夠加工的最小線寬。然而,這些方式使得我們光刻機(jī)的制造難度以及制造成本急劇增加,并且已逐步逼近物理極限。為了進(jìn)一步提升分辨力,各種新的光刻方法應(yīng)運而生,包括表面等離子光刻、納米壓印、多光子光刻等等,這些方法都有可能成為下一代主流光刻技術(shù)。

在大面積方面,大面積光刻機(jī)主要應(yīng)用于顯示產(chǎn)業(yè)。為了使我們用上更大的平板電視,光刻機(jī)的加工面積越做越大,液晶面板十代線上的光刻機(jī)加工面積達(dá)到了2880mm×3130mm,但最小加工線寬僅為3μm左右。隨著顯示產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,AMOLED、高清顯示等要求小加工線寬的顯示技術(shù)的出現(xiàn),該類設(shè)備不再僅以大為追求目標(biāo),如何在大的基礎(chǔ)上減小最小加工線寬,成為該類光刻設(shè)備發(fā)展的重要方向。

三維方面,我們在每層圖形加工過程中,都是將其作為一個平面進(jìn)行加工。隨著加工最細(xì)線寬已經(jīng)逐步達(dá)到物理極限,在橫向平面的潛力已經(jīng)挖缺殆盡,未來將有可能向縱向發(fā)展,通過三維結(jié)構(gòu)代替二維圖形,進(jìn)一步提高信息容量。

隨著技術(shù)的飛速進(jìn)步,一起期待我們和光刻機(jī)的光明未來吧!

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